微焦點(diǎn)X射線(xiàn)系統是新一代X射線(xiàn)系統，采用平臺式檢測設計，各種模塊都可以即插即用、用戶(hù)可以根據其現在或將來(lái)的檢測需求，選擇合適的功能模塊。主要用于檢測電子線(xiàn)路板，半導體產(chǎn)品、微電子元件及電路板焊接器件、鑄件等的看不見(jiàn)部分的焊接或鑄造缺陷檢測、多層綁定芯片的內部看不見(jiàn)的缺陷檢測。

　　在微焦點(diǎn)X射線(xiàn)系統檢查期間，扇形X射線(xiàn)穿過(guò)待檢查的樣本，然后在圖像檢測器上形成放大的X射線(xiàn)圖像。圖像的質(zhì)量由三個(gè)主要點(diǎn)決定：放大率，分辨率和對比度，圖像分辨率（清晰度）主要由X射線(xiàn)源的焦點(diǎn)大小決定，圖像的幾何放大率由X射線(xiàn)路徑的幾何特性確定。

　　在進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線(xiàn)檢測時(shí)，常規微射線(xiàn)檢測存在很大差異：我們通常不需要考慮圖像半影的大小，即通常不考慮幾何清晰度的影響，原因是當焦點(diǎn)尺寸足夠小時(shí)，可以忽略半影。因此，當X射線(xiàn)視野在可接受范圍內，我們可以最小化從樣品到焦點(diǎn)的距離。

　　為什么要使用微焦點(diǎn)X射線(xiàn)系統，主要是為了達到納米級直徑跳躍誤差和運動(dòng)精度，確保樣品在測試過(guò)程中的穩定性，保證圖像的高清畫(huà)質(zhì)，同時(shí)具有樣品運動(dòng)自適應校正功能，有效降低了樣品掃描過(guò)程中運動(dòng)和變形引起的不良重建效果。

　　進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線(xiàn)檢測，當焦距很近時(shí)，錐束角或視場(chǎng)范圍非常重要。例如，25°錐角的微焦點(diǎn)X射線(xiàn)機的曝光次數要小于15°錐角的微焦點(diǎn)X射線(xiàn)機在檢測相同范圍時(shí)的曝光次數。

　　另一個(gè)需要考慮的是焦點(diǎn)到X射線(xiàn)管窗口外表面的距離，它決定了被檢樣品到焦點(diǎn)的最小距離。 這一參數的重要性在于它決定了一個(gè)微焦點(diǎn)系統可能達到的最大放大倍數。 由于防護設施空間的局限以及射線(xiàn)的衰減與距離的平方成反比（I/R2 ），我們無(wú)法隨意拉長(cháng)膠片或探測器到射線(xiàn)源的距離以增大放大倍數。